Bersaglio di sputtering di zirconio

Bersaglio di sputtering di zirconio

Target di zirconio, target planare di zirconio, target di sputtering di Zr
Purity:>99.5%
Dimensione:
12x131x1214mm come da disegno
12x132x1701mm come da disegno
18x164x1810mm come da disegno o altre dimensioni su richiesta.
Quantità minima: 1 pz.

introduzione al prodotto

I target di sputtering in zirconio sono utilizzati in una varietà di settori, tra cui rivestimenti ottici e semiconduttori, rivestimenti medici e industriali e applicazioni energetiche. I target di sputtering in zirconio sono in genere composti da Zr ad alta purezza e sono prodotti in varie forme e dimensioni, come dischi, piastre, cilindri e barre. I target di sputtering in Zr sono in genere utilizzati nei processi di deposizione fisica da vapore (PVD), in cui il materiale viene vaporizzato e depositato su un substrato per fornire un rivestimento a film sottile con le proprietà desiderate. Tali proprietà possono includere conduttività elettrica, resistenza alla corrosione, proprietà ottiche o altre caratteristiche desiderate. Siamo impegnati nella produzione e nella ricerca e sviluppo dal 2001.

Descrizione

Nome dell'elementoBersaglio di zirconio, bersagli di sputtering di Zr, bersaglio in lega di zirconio
Purezza99.5%-99.995%
Formadischi, piastre, cilindri e aste
MaterialeZirconio
Dimensione12x132x1701mm e disegno personalizzato
TecnicaFusione sotto vuoto
Superficie

Precisione realizzata e messa a terra. Rugosità Ra 0.8-Ra 3.2 per la superficie del bersaglio

Qualità1) Superficie liscia senza pori, graffi e altre imperfezioni

(2) Bordo rettificato o tornito, senza segni di taglio

(3) Livello imbattibile di purezza materiale

(4) Elevata duttilità

(5) Microstruttura omogenea

(6) Marcatura laser per il tuo articolo speciale con nome, marchio, dimensione di purezza e così via

Applicazione

(1) Rivestimento in vetro e rivestimento per orologi

(2) Attrezzature oceaniche e spaziali

(3) Apparecchiature per uso medico

(4) Smaltimento delle acque reflue

Caso di applicazione

I target di sputtering in zirconio (Zr) sono comunemente utilizzati in una varietà di applicazioni industriali in cui sono richiesti film o rivestimenti sottili. Ecco alcuni esempi specifici:

1. Ottica: i target in zirconio Zr vengono utilizzati per produrre pellicole sottili per applicazioni ottiche, come rivestimenti antiriflesso su vetro o lenti e rivestimenti riflettenti per specchi.

2. Energia solare: i target Zr vengono utilizzati per depositare pellicole sottili sui pannelli solari. Queste pellicole sottili aumentano l'efficienza dei pannelli solari assorbendo più luce e convertendola in energia.

3. Elettronica: i target di zirconio vengono utilizzati per produrre pellicole sottili per dispositivi elettronici come transistor, condensatori e resistori. Queste pellicole sottili possono essere utilizzate in una varietà di applicazioni elettroniche, tra cui circuiti integrati e sensori.

4. Rivestimenti resistenti all'usura: gli obiettivi di sputtering vengono utilizzati per produrre rivestimenti resistenti all'usura per una varietà di applicazioni, tra cui utensili da taglio, pale di turbine e cuscinetti. Questi rivestimenti possono aiutare a prolungare la durata di questi componenti e ridurre i costi di manutenzione.

5. Applicazioni biomediche: gli Zr Sputtering Target vengono utilizzati nella produzione di impianti biomedici come articolazioni artificiali, impianti dentali e custodie per pacemaker. Lo zirconio è biocompatibile, il che significa che non è tossico e non provoca una risposta immunitaria, il che lo rende un materiale ideale per queste applicazioni.

Nel complesso, hanno un'ampia gamma di applicazioni industriali grazie alle loro eccellenti proprietà fisiche e chimiche, tra cui elevato punto di fusione, resistenza alla corrosione e biocompatibilità. Possiamo fornire anche target per sputtering in titanio e target per sputtering in cromo Cr.

Etichetta sexy: Obiettivi di sputtering Zr

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